Media, Aesthetics, and Cultural Entrepreneurship: semester 2

Education facts

Code: MEK200

MEK200 går under andra terminen på MEK och innehåller fyra olika delkurser. Delkurs 1: Kulturekonomi 10 hp, kombinerar forskning kring kulturekonomi med forskning kring företagsekonomi med forskning kring marknadsföring och publik-/användarforskning utifrån ett syfte att belysa och kritiskt granska hur olika aktörer inom kultur- och mediefältet bedriver samt bygger upp kunskap kring sina verksamheter, sina produkter och sin publik. Delkurs 2: Att förstå konstnärliga processer, 10 hp, behandlar olika typer av konstnärligt arbete utifrån såväl institutionella som individuella perspektiv. Konstnärligt skapande och konstnärliga processer studeras både som socialt betingade och aktörscentrerade verksamheter. Delkursen bygger på forskning kring konstnärliga processer och konstnärligt arbete kombinerat med fallstudier. Delkurs 3 och 4 löper parallellt och kompletterar varandra. Projektarbete: kulturellt och socialt entreprenörskap, 5 hp, bygger på brett designperspektiv och att omforma teknologier, organisationer eller konstnärliga uttryck för andra syften än de ursprungligen var avsedda för. Studenterna ska i grupp skapa och utveckla ett projekt utifrån en estetiskt grundad idé. Projektarbetet introducerar grundläggande metoder för projektarbete i grupp (t.ex. designprocesser, organisation, ekonomi, konflikthantering). Kulturellt och socialt entreprenörskap, 5 hp, är en teoretisk och normkritisk fördjupning utifrån forskning kring entreprenörskap, i synnerhet inom kulturella näringar, men också inom den ideella sektorn, och hur konstnärliga processer kan utvecklas och organiseras.

Entry requirements

Godkänt på kurs MEK100.

Education offerings

Each offering has its own dates and conditions. Closed offerings are retained as history and do not mean that a new application is open.

• Media, Aesthetics, and Cultural Entrepreneurship: semester 2

  University of Gothenburg

  Start date: 19 January 2026

  End date: 7 June 2026

  Pace of study: 100 %